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某建设项目拟建于北京经济技术开发区内。拟建设8英寸(20.32cm)0.35～0.18μm芯片(月投片30000片)，12英寸(30.48cm)先进制程线，0.13～0.09μm芯片(月投产3000片)。本项目建设期2年，是生产期2年，达产期4年，总投资为12.5亿美元。本项目征地面积240030m2。对芯片加工类的特征空气污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物进行监测，芯片生产后加工工序会有VOC产生其处理工艺使用天然气助燃方式解决，会产生SO2、NOx等废气。A:环境空气敏感区
B:预测范围内的网格点
C:区域最大地面浓度点
D:污染源的设置点
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气体状态污染物包括（)。
A．离子状态污染物
B．颗粒状态污染物
C．分子状态污染物
D．粒子状态污染物
E．蒸汽状态污染物
某省2000年分布了严于国家的地方大气污染物排放标准，规定A污染物和B污染物排放分别执行80mg/m3和400mg/m3。2003年国家修订原大气污染物排放标准，要求A污染物和B污染物排放分别执行100mg/m3和200mg/m3。目前该省A污染物和B污染物排放标准应分别执行（）mg/m3。
A.A污染物80B.A污染物100
C.B污染物200D.B污染物400
A.A污染物80B.A污染物100
C.B污染物200D.B污染物400
（2013年）某垃圾渗滤液处理设施向外散发恶臭气体，根据《恶臭污染物排放标准》，下列关于该设施无组织恶臭污染物达标排放的说法，正确的是（）。
A.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物厂界标准值
B.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放量标准值
C.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放标准值
D.恶臭污染物浓度和排放浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放标准值
A.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物厂界标准值
B.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放量标准值
C.恶臭污染物浓度和臭气浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放标准值
D.恶臭污染物浓度和排放浓度都必须低于或等于恶臭污染物排放标准值
某拟建项目排放的废水水温46℃、pH7.8，含有汞、锌、铜、铅四种污染物。根据《环境影响评价技术导则—地面水环境》，该项目在进行水环境影响预测时应考虑的污染物类型是()。 A:持久性污染物、非持久性污染物、酸碱污染物B:持久性污染物、非持久性污染物、酸碱污染物、废热C:持久性污染物、酸碱污染物D:持久性污染物、废热
污染物按性质及控制方式分为()。
AⅠ类污染物
B第一类污染物
C第二类污染物
DⅡ类污染物
